资产编号 201907052

仪器名称
聚焦离子/电子束双束显微系统(GAIA3 FIB/SEM)  状态【完好
英文名称 Focused Ion-Electron Beam field emission scanning
规格/型号 */GAIA3 XMH 
生产厂商 Tescan公司
国别 捷克
所属学院 现代分析与计算中心 放置地点 [表面分析一室 ]
使用日期 2013-6-27 电子邮箱 15082111@qq.com
性能指标 电子枪: 高亮度肖特基场发射枪
分辨率:
标配(In-Beam 二次电子):
0.7 nm @ 15 kV
1.4 nm @ 1 kV 1.0 nm @ 1 kV
1.7 nm @ 500 V 1.2 nm @ 200 V
In-Beam LE-BSE: 1.6 nm @ 15 kV
STEM: 0.7 nm at 30 kV
放大倍数: 4 倍 - 1,000,000 倍
视野宽度: 分析工作距离 5 mm 时为 4.3 mm;30 mm 时为 7.5 mm
加速电压: 200 V - 30 kV
探针电流: 2 pA - 400 nA
电子光学工作模式:
UH Resolution: 最佳分辨率观察
Depth: 高分辨观察,加强了景深
Analysis: 适合观测和分析磁性样品
Overview: 大视野观察
离子束:
分辨率: <2.5 nm at 30 kV
放大倍率: 150 倍- 1,000,000倍
加速电压:0.5 kV - 30 kV
离子枪: Ga液态金属离子源
探针电流: 1 pA - 50 nA
主要应用 矿业工程、材料、化工等领域, 高分辨成像以及FIB微纳米加工。
样品要求 1.送检样品不能有磁性、不能含水;
2.块状样品长、宽不能超过10mm,高度不能超过5mm;
3.粉末样品应牢固站在导电胶带,在气球吹拂过程中不能晃动;
4.块状样品质地坚实,不能落粉。
5.每半小时预约1个样品。
仪器说明       GAIA3是一个非常强大的三维可视化显微工具,易于制备超薄TEM样品和精确的FIB图案。通过具备超高分辨率Triens  TM光学和完美检测系统的Triens  TM SEM镜筒捕捉最精细的亚纳米级细节,高分辨FIB可实现快速精确的纳米加工。大量的软件模块和自动化程序增强了用户友好性。

     主要附件有等离子清洗系统;扫描透射电子探测器;纳米机械手。